真空蒸着（Vacuum Deposition）

真空中でアルミニウムなどの材料を加熱・蒸発させ、基材フィルム表面に付着させる技術。金属光沢を持たせる意匠目的のほか、酸素・水蒸気の透過を防ぐ高いバリア性、遮光性、電気抵抗値等を付与するために用いられます。

スパッタリング（Sputtering）

真空中でプラズマを発生させ、ターゲット材料にイオンを衝突させて叩き出された粒子をフィルムに堆積させる手法。蒸着に比べて膜の緻密性と密着性が極めて高く、ITOフィルム（透明導電膜）などの高機能光学フィルムの製造に用いられます。

CVD（化学気相成長）

反応性ガスを加熱またはプラズマにより化学反応させ、フィルム表面に薄膜を生成する方法。有機ケイ素ガスなどを原材料として、透明バリアフィルム製造に多く用いられます。物理的な蒸着よりも均一で緻密な膜を形成できるため、高いガスバリア性を付与することができます。